Formation factors of stable nanocrystalline thin films

Панчеха, Петро Олексійович; Панчеха, Петр Алексеевич; Panchekha, P. O.; Basov, Andrii Hennadiiovych; Басов, Андрей Геннадьевич

Please use this identifier to cite or link to this item: http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/22493

Or use following links to share this resource in social networks: Recommend this item

Title	Formation factors of stable nanocrystalline thin films
Authors	Панчеха, Петро Олексійович Панчеха, Петр Алексеевич Panchekha, P. O. Basov, Andrii Hennadiiovych Басов, Андрей Геннадьевич
ORCID
Keywords
Type	Article
Date of Issue	2003
URI	http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/22493
Publisher	Institute for Single Crystals
License
Citation	Formation factors of stable nanocrystalline thin films / P.A.Panchekha, A.G.Basov // Functional Materials. — 2003. — Vol. 10, № 3. — Pp. 395-401.
Abstract	Анализируются экспериментальные данные о концентрации и температурной стабильности межзеренных границ и дефектов упаковки в тонких пленках металлов с некристаллической структурой. Сделан вывод, что образование этих дефектов в процессе конденсации уменьшает свободную энергию тонких пленок. При цитуванні документа, використовуйте посилання http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/22493 Experimental data on concentrations and temperature stability of intergrain boundaries and stacking faults in thin metal films of nanocrystalline structure are considered. The defect formation in the course of condensation has been concluded to decrease the thin film free energy. При цитировании документа, используйте ссылку http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/22493
Appears in Collections:	Наукові видання (ШІ)